Ex-situ priprema tankoslojnih hibridnih materijala s tehnikom Depozicije Atomskih Slojeva (ALD)


Specifični cilj predloženog projekta je priprema novih organsko-anorganskih tankih filmova s kontroliranom debljinom. Kombinacija optičkih, elektroničkih, mehaničkih i katalitičkih svojstava čvrstih (SiO2) i mekih materijala (polimeri, organske funkcionalnosti) predstavlja obećavajuće primjene spomenutih naprednih hibridnih materijala u budućim tehnologijama, kao što su fleksibilna elektronika, polimeri za pakiranje, filteri za pročišćavanje voda od organskih i bioloških zagađivača, automobilski i zrakoplovni materijali, tekstil i sl.

U projektu se istražuju novi pristupi u sintezi hibridnih materijala, koristeći tehniku Depozicije Atomskih Slojeva (Atomic layer deposition - ALD) u kombinaciji s ex-situ visoko selektivnom „klik“ kemijom, koji će unaprijediti osnovna znanja i razviti inovacije u sintezi organsko-anorganskih tankih filmova.

Spomenuti sintetski pristup će omogućiti narastanje potpuno novog tipa višeslojnih keramičkih/organskih filmova deponiranih na SiO2 ili polimernoj podlozi.


Istraživački tim
Ivana Jelovica Badovinac ijelov@phy.uniri.hr
Iva Šarić va.saric@phy.uniri.hr
Ivna Kavre Piltaver ivna.kavre@phy.uniri.hr

doc. dr. sc. Gabriela Ambrožić univ. dipl. kem.

Odjel za fiziku

e-pošta: gabriela.ambrozic@uniri.hr

Google Scholar


MEĐUNARODNA VIDLJIVOST:
CITATIH-INDEXI10-INDEX
Web of Science 296 11